Что такое оскопление: Оскопление — это… Что такое Оскопление?

что стало с самой страшной сектой в России — Рамблер/субботний

Церковный раскол середины XVII века породил множество изуверских сект, и одной из самых страшных и могущественных стала секта скопцов, адепты которой оскопляли себя, надеясь избежать греха.

Изуверство

О секте в России заговорили в конце XVIII века, когда «прославились» скопцы в Орле, куда Екатерина Великая послала полковника Волкова с целью выяснить, что правда, а что нет. Императрица сразу приняла меры для искоренения этого явления: зачинщики были высечены и сосланы в Нерчинск, но секта уцелела, и в 1800-м году была выявлена снова. Как пишет в работе «Мир „белых голубей“ (скопчество)» историк В. Н. Ряполов, сектанты практиковали оскопление мужчин, отрезая или отжигая железом яички, а наиболее фанатичные практиковали отрезание полового члена и даже сосков. Скопцы обрезали женщинам половые губы, клитор и груди, что, впрочем, не лишало женщин способности к деторождению. Фанатики оскопляли себя, своих родственников и детей, нанося этим вред здоровью. Они верили, что если лишить себя органов, являющихся «источником» похоти, то можно якобы победить грехи и войти в рай. Многие из-за инфекций и кровотечений умирали сразу после «процедуры», другие теряли интерес к жизни, жирели. Мужчины лишались работоспособности, выносливости, желания новизны, риска.

Искупитель Селиванов

В 1800 году скопцов заключили в крепость Динамюнде. Оказалось, что их лидером является некий Кондратий Селиванов, называвший себя «искупителем», который пришел в секту хлыстов, втерся в доверие и возглавил сектантов. Он трактовал Евангелие по-своему усмотрению и договорился до того, что главным условием спасения назвал оскопление. В конце концов, сектанты сами выдали его властям. В 1774 году Селиванов был выпорот и сослан в Иркутск на каторгу, но бежал, вернулся в Москву и объявил себя императором Петром III. Селиванова арестовали и доставили к императору Павлу, который хотел взглянуть на самозванца, после чего заключили в Обуховскую больницу для умалишенных. Но Селиванов через три месяца — после смерти Павла — вышел и оттуда: его среди прочих освободил Александр I. В результате этого скопчество расцвело, охватывая все новые сословия. В секту входили крестьяне и помещики, купцы и нищие. Император был вынужден взять с Селиванова подписку, что тот больше не будет вовлекать в секту мужчин, но это не помогло. «Искупитель» жил то у купцов Ненастьевых, то у Костровых, то у Солодовниковых и собирал на радения до 300 человек. Радениями у скопцов назывались песнопения, соединенные с коллективными телодвижениями и кружениями, от чего адепты впадали в транс. «Святой дух пробирает!» — хвастались они, не подозревая, что на самом деле одержимы бесами. Скопцы верили, что когда их число достигнет 144 тыс., наступит Страшный суд, и все они обретут рай. Они пользовались таким высоким покровительством, что даже полицейские не могли их тревожить. Единственное, что им запрещали — это огненное крещение, то есть отьятие у мужчин яичек путем прижигания раскаленным железом.

Выпороть и сослать!

Вскоре скопцы появились даже в армии, а одна из девиц-сектанток объявила себя супругой Великого князя Михаила Павловича. Оскоплять себя начали даже молодые придворные, и тогда Александр I решил покончить с этим. В 1820 году Селиванова тайно заточили Спасо-Ефимьевом монастыре и поступили так с другими лидерами скопцов, после чего секта ушла в подполье, но менее опасной не стала. Своей внешней добротой, вкрадчивостью, обещанием богатства (наследников у них не было) скопцы вовлекали в свои ряды новых адептов. Завещая друг другу имущество, они аккумулировали огромные состояния, что тоже служило своего рода пропагандой. К сектантам относились купцы-миллионщики Садовников, Кобычев, Васильев, Антонов. Николай I в свою очередь ужесточил преследование секты. По уложению 1845 года скопцы лишались гражданских прав и подлежали ссылке в самые глухие места Сибири, а за оскопление других приговаривались к кнуту, клеймению и 6 годам каторги. Но как указывает в работе «Ответственность скопцов согласно Уложению о наказаниях 1845 года» Илья Андреевич Александров, это исполнялось не всегда, и в 1867 году в центральной России присутствовало не менее 7 тыс. скопцов.

Бодрым шагом в XXI век?

Несмотря на преследование, секта пережила рубеж XIX—XX веков. В 1901 году в Рязани были обнаружены 16 скопцов. Все они заявляли, что кастрировали себя сами. Обер-прокурор Константин Петрович Победоносцев сетовал, что скопцы скрытны, и это лишает власти возможности следить за ними. Он отмечал, что к счастью, почти все они бездетны, но предостерегал, что они весьма искусны в пропаганде. В 1905 году император Николай II позволил скопцам самим выбрать место проживания, и несколько тысяч сектантов вернулись из Сибири. Это вызвало новый всплеск оскоплений. В результате в 1910 году в Харькове судили 142 скопца, в 1911 году в Курске — 22, в 1912 году в Воронеже было арестовано 80 скопцов, в Уфе — 26. 1913 год ознаменовался процессами над скопцами в Екатеринбурге, в Рязани и в Вышнем Волочке. И только революция и Гражданская война разметали сектантов так, что о них забыли. Правда, во времена НЭПа сектанты попытались возродить общины, но большевики терпеть их не стали. В 1929 году появился закон «О религиозных культах»: общины закрывали принудительно, а кое-где провели и показательные уголовные процессы. Например, в декабре 1929 года в Саратове, и в 1930 году в Ленинграде. Скопцы были объявлены кулаками и эксплуататорами; в вину им ставилось уродование людей, пропаганда монархии, религии и антисоветчина. В Ленинграде 15 сектантов получили сроки от 2 до 4 лет с конфискацией половины имущества. В 1930 году лидер сектантов, Ломоносов, получил 10 лет лишения свободы, а активисты — от 2 до 8 лет. Очевидно, большая часть скопцов сгинула в ГУЛаге, а их идеология просто исчезла. Впрочем, исчезла ли? Последние скопцы были встречены журналистом Александром Колпаковым в 1999 году в Подмосковье. Член секты Анатолий рассказал, что его, сироту, оскопил старик-родственник в середине 1950-х годов в деревне, куда его отправили на воспитание. Его кастрировали в бане, наобещав, что отпишут дом и подарят коробку золотых червонцев. Еще два скопца поведали Колпакову, что их оскопил отец. Всего в 1999 году журналисту удалось найти 7 скопцов и даже побывать на радении.

Скопцы — это… Что такое Скопцы?

Скопцы («агнцы Божьи», «белые голуби») — последователи мистической секты духовных христиан, возводящей операцию оскопления в степень богоугодного дела.^[1]

История

Известно, что некоторые духовные лица на Руси в XII—XIII веках были скопцами.^{[источник не указан 63 дня]}

По мировоззрению близка к хлыстам (христоверам^[2]). Как секта в религиоведческом понимании возникла в XVIII веке, основателем считается беглый крепостной Кондратий Селиванов, покинувший секту хлыстов «богородицы» Акулины Ивановны, разочаровавшись в своих прежних религиозных убеждениях.

Общины скопцов считали, что единственным путём спасения души является борьба с плотью путём оскопления. В царской России секта скопцов преследовалась, её члены ссылались в Сибирь. Несмотря на это, секта была довольно многочисленна: во второй половине XIX века скопцов насчитывалось около 6 тысяч, главным образом в Тамбовской, Курской, Орловской губерниях, в Сибири, где богатые скопческие общины покупали земли у местного населения.

В СССР секта скопцов также была запрещена. В 1929 году состоялся громкий судебный процесс над сектой.^[3] А первый суд над сектой состоялся в 1772 году, когда судили целую общину в количестве 246 человек.^[4]

В настоящее время небольшое количество скопцов осталось в некоторых районах Северного Кавказа. Это т. н. «духовные» скопцы (в их общинах оскопление не производится). От участников этих сект требуется отправление определённого культа, сохранение аскетического образа жизни.

Структура и организация

Как отдельное общество, скопцы представляли собой довольно стройное целое, обладающее значительными капиталами. Себя они именовали «белыми голубями» (в отличие от «серых голубей» — хлыстов).^[5] Этимология самоназвания проста: «убелиться» на жаргоне скопцов означает оскопиться. Свои общины скопцы, как и хлысты, называли «кораблями». Несмотря на декларируемое скопцами равенство всех «братьев» и «сестер», «кормчий», стоящий во главе «корабля», обладал властью над прочими общинниками. Помогающая «кормщику» женщина, аналогично хлыстовской практике, именуется «богородицей».

Скопцы отличались сильнейшим прозелитизмом. Существовало несколько основных способов вовлечения в секту новичков:

• Оскопление малолетних родственников
• Экономическое закабаление
• Выкуп крепостных крестьян при условии оскопления
• Соблазнение деньгами
• Пропаганда «чистоты», особенно эффективная среди юношества

Обстоятельством, затрудняющим окончательное вступление в секту, являлось её учение о необходимости оскопления, но и его скопцы подкрепляли аргументами, против которых было трудно устоять. Во-первых, тексты из Библии имеющие смысл, выгодный скопцам: кроме Св. Писания, скопцы и в иных книгах духовно-нравственного содержания, наиболее распространенных и уважаемых в народе, отыскивали выражения и целые фразы, говорящие об оскоплении. Во-вторых, физическому страданию от операции оскопления и преследованию со стороны правительства скопцы старались придать строго религиозный характер. Наконец, иногда делалось снисхождение, позволяющее отлагать принятие оскопления на неопределенное время или, по крайней мере, не обязывая к нему сразу же по вступлению в секту.

Религиозные взгляды

Трактовка христианства

Основой учения скопцов явилась строка из евангелия от Матфея 19 глава, стих 12:

Есть скопцы, которые из чрева матернего родились так; и есть скопцы, которые оскоплены от людей; и есть скопцы, которые сделали сами себя скопцами для Царства Небесного. Кто может вместить, да вместит.

Скопцы строго соблюдали воздержание от мясной пищи, вовсе не употребляли алкоголь, не курили, избегали родин, крестин и свадеб, не участвовали в увеселениях, не пели светских песен, вовсе не ругались. В отличие от членов старообрядческих общин, скопцы охотно посещали православную церковь и даже проявляли в вопросах религиозной обрядности большое усердие. При этом они открыто осмеивали православные обряды и таинства; храм называли «конюшней», священников — «жеребцами», богослужения — «ржанием жеребцов», брак — «случкой», женатых людей — «жеребцами» и «кобылами», детей — «щенятами», а их мать — «сучкой, от которой воняет и в одном месте с ней сидеть нельзя». Деторождение называли причиной обнищания и разорения.

Вот мы не женимся и замуж не выходим, от того и богаты. Делайте то же, что и мы, перестаньте верить вашим жеребцам тогда жить будет легче, будете богаты, будете святы.

Скопческая песня Селиванова своим «детушкам»:

О возлюбленные детушки! Теперь вам всю правду открою, что я искупитель, родимый батюшка, впредь устрою, кого за какую жизнь и службу удостою. Кому царство растворю, а кого раем подарю, а кого за веру поблагодарю!

Скопцы веруют, что когда их число достигнет 144 тысячи, наступит страшный суд, за которым будет торжество последователей скопчества. «Последний завет» Селиванова:

Дожидайте, что скоро растворится неволя; ждите с часу на час, как бы милосердный батюшка, живой спас, не открылся бы вдруг у вас.

Мифология

Скопцы имели собственный взгляд на Евангелие (считали, что кастрацию прошли все апостолы) и создали собственную мифологию, связанную с их взаимоотношениями с русскими царями. Так, согласно вымыслу скопцов, Павел I был убит именно за отказ принять скопчество, а царем стал согласившийся оскопиться Александр I. Существует скопческая песня, излагающая вымышленную беседу Павла и Кондратия Селиванова, после которой участь царя была решена:

Наш батюшка искупитель Кротким гласом провестил: «Я бы Павлушку простил: Воротись ко мне ты Павел, Я бы жизнь твою исправил». А царь гордо отвечал, Божества не замечал, Не стал слушать и ушел. Наш батюшка искупитель Своим сердцем воздохнул, Правой рученькой махнул: «О земная клеветина, Вечером твоя кончина! Изберу себе слугу, Царя бога на кругу. А земную царску справу Отдам кроткому царю: Я всем троном и дворцами Александра благословлю, Будет верно управлять, Властям воли не давать…»

Другая легенда, популярная у скопцов:

Как-то раз будят Александра I сенаторы и говорят ему хмуро: «Мы слышали, что вы, ваше величество, — скопец. Это никуда не годится, чтобы русский царь был скопец. Поедемте в Сенат, там снимете штаны, чтобы правду узнать». Делать нечего, поехал царь в Сенат и там снял штаны, и все увидели: да, действительно скопец. Сенаторы разозлились и хотели его там же удавить. Но в этот момент к Сенату подъезжает Константин, человек невероятной физической силы, тоже скопец, и говорит гвардейцу: отвори ворота. Тот: не велено пускать. Константин вырывает у него шашку и одним движением отрубает ему голову. Вбегает и рубит всех, кто под руку подвернулся, в том числе и злодеев-сенаторов. А спасенному Александру говорит: «эх ты, курицы испугался».

Обряды

Обложка книги Н. Н. Волкова «Секта скопцов», 1930 г. Оскоплённая женщина, которой была удалена грудь

Оскопление

В первое время существования в России скопчества операция оскопления у скопцов состояла в отнятии (ампутации) одних только яичек («удесных близнят») с частью мошонки посредством отжигания их раскаленным железом. Отсюда мистическое название: «огненное крещение». Впоследствии скопцы для операции оскопления стали употреблять разного рода острые режущие орудия, а раскаленное железо — лишь для остановки кровотечения. При этом предварительно мошонка стягивалась выше захваченных яичек ниткой, тесьмой или веревкой. Рана покрывалась тряпкой, смоченной в холодной воде или смазанной деревянным маслом, спуском и другими мазями или свежим салом; иногда для остановки кровотечения рана посыпалась порошками квасцов, медного купороса и др. Рана затягивалась недели через четыре рубцом, большею частью подковообразной формы, шедшим поперек остаточной части мошонки. Этот род оскопления, практиковавшийся в начале XX века, назывался «малая печать», «первая печать», «первое убеление», «сесть на пегого коня», «первая чистота». Однако такая операция, не лишая скопцов вожделения и даже возможности полового соития, некоторым казалась недостаточною, и они решались на отнятие детородного члена, называвшееся «второю», или «царскою печатью», «второю чистотою», «вторым убелением», «сесть на белого коня». Она осуществлялась или вместе с отнятием яичек, или впоследствии (но не ранее, чем через несколько месяцев после «первой печати», иначе высока вероятность летального исхода), при помощи установки в отверстие мочеиспускательного канала оловянных или свинцовых шпенек. Рана затягивалась при операции в один прием одним рубцом, во втором же случае — двумя рубцами, которые оставались у оскопленного на всю жизнь.

Существовали также «третья печать» — удаление сосков, а в ряде случаев и «четвертая» — вырезание на боку у скопца треугольника (мотивация обряда неясна, но можно было бы предположить, зная более точно в каком именно месте делали вырез, что это знак прободенного копием ребра Иисуса Христа, распятого на кресте (треугольная форма соответствует форме наконечника копья).

К особым способам оскопления относится искусственная гипоспадия (путем искусственной перевязки полового члена), применявшаяся к мальчикам. В Тамбовской губернии существовал особый род скопцов — перевертыши, — которые не лишают себя никаких частей тела, но, вероятно, еще c детства перекручивают себе семенные канатики. В секте проколышей, основанной Куткиным, употреблялось оскопление посредством прорезывания или прокалывания семенных канатиков.

Зачастую «убелению» подвергались и женщины, входящие в скопческую общину. Существовали «печати» и для женщин: им удаляли половые губы, а в ряде случаев еще и клитор и груди. Однако в этом случае женщины не теряли способности к деторождению: советский исследователь скопчества Волков свидетельствует о примерах, когда покинувшие общину женщины даже выходили замуж и имели детей.

Радения

Радение «корабликом»

В дни накануне (ночью) некоторых больших праздников православной церкви скопцы устраивали собрания единоверцев в особых помещениях. На этих собраниях происходили особые богомоления скопцов — «радения», на которых они пели православные песнопения и скопческие «распевцы» или «стихи», принимали новых членов секты, ходили разными способами, надевая при этом особые белые одежды, длинные рубахи. У скопцов были и свои особенные праздники, посвященные каким-либо воспоминаниям из жизни основателя скопчества Селиванова; например, 15 сентября — день наказания Селиванова. В такие дни они также устраивали радения.

Существовало четыре способа радений:

• «корабликом»: радеющие становились в круг один позади другого и ходили гуськом друг за другом, сильно припрыгивая;
• «стеночкой»: радеющие становились в круг плечом к плечу и ходили «посолонь» (то есть по солнцу, слева направо), припрыгивая;
• «крестиком»: 4-8 человек становились по одному или по два в каждый угол и затем быстрым шагом, опять-таки припрыгивая, крестообразно менялись местами;
• в «одиночку»: несколько человек выходили на середину и под такт скороговорчатых «распевцев» начинали кружиться на одном месте, все быстрее и быстрее, так что рубахи их надувались и шумели как паруса.

Эти пляски, которым скопцы предавались до одурения, истощали их силы, что, по мнению скопцов, ослабляло «злую лепость»; а с другой стороны, действовали на радеющих как бы наркотически, доставляя им особого рода наслаждение.

В культуре

• Существует теория, согласно которой А. С. Пушкин в своём «Золотом петушке» завуалированно описывал скопцов: Шамаханская царица — деревня Шамохань являлась деревней скопцов, её возглавляла женщина. Таким образом сказку можно рассматривать как поочередное оскопление сыновей царя, влюбившихся в эту женщину. Золотой петушок при данном толковании — мужской половой орган — причина бед. Данная версия имеет место ввиду наличия в творчестве А. С. Пушкина произведений с интимной тематикой^[6].
• Скопцы часто упоминаются у Ф. М. Достоевского.
• Скопчество занимает большое место в творчестве новокрестьянского поэта Н. А. Клюева, который, по всей вероятности, сам был в своё время связан с данной сектой.
• В романе «Шатуны» Ю. В. Мамлеева главный герой встречается со скопцами и наблюдает их обряды.
• В романе Короленко «История моего современника» описываются его встречи в Сибири со скопцами, которых он называет «изуверной сектой».
• Скопцы упоминаются в романе Альфреда Бестера «Тигр! Тигр!» (в некоторых переводах — «секта Скоптски»).
• Скопцы упоминаются на всём протяжении романа Ю. Тынянова «Конец Вазир-Мухтара».

См. также

Примечания

Литература

• Н. Н. Волков Секта скопцов. — Л.: «Прибой», «Печатный Двор», 1930. — 144 с.
• Н. Н. Волков Скопчество и стерилизация. — М.—Л., 1937.
• Ф. И. Федоренко Секты, их вера и дела. — М.: «Политиздат», 1965. — 358 с.
• Н. М. Маторин К вопросу об идеологии скопчества // Критика религиозного сектантства. — второе, посмертное издание. — М., 1974. — С. 178—182.

Ссылки

Оскопление Википедия

Кастра́ция, холоще́ние — это удаление репродуктивных органов у животных. У самцов удаляются яички, а у самок кастрация может быть частичной — удаляются только яичники — или полной — яичники удаляются вместе с маткой.

Данную операцию следует отличать от стерилизации, когда у самцов только перевязывают семенные канатики, ничего не удаляя, а у самок удаляют матку, оставляя при этом яичники, или перевязывают маточные трубы; после стерилизации животные теряют способность к воспроизведению потомства, но при этом сохраняют все остальные инстинкты и манеру поведения, свойственную непрооперированным животным.

Кастрация животных

Кастрация сельскохозяйственных животных

Широко применяется для увеличения веса животных, предупреждения агрессивного поведения животных и улучшения качества мяса. Производится до начала полового созревания. Кастрированные животные-самцы не только отличаются апатичным нравом, но к тому же их мясо не имеет специфического запаха, менее жёсткое и более жирное.

Рабочих тягловых животных обычно кастрируют.

Кастрированные животные некоторых видов имеют специальные названия^[1]:

Кастрация комнатных животных

Кастрацию котов и кобелей применяют с целью управления их численностью, снижения агрессивного поведения и рисков заболеваний половой сферы. Но после данной процедуры животные могут стать апатичными и склонными набирать лишний вес.

Зачастую также используется для бездомных животных с той же целью.

Кастрация людей

Римские зажимы для кастрации (II—III вв.н.э). Рычаги соединялись гайкой.

Кастрация — калечащая операция на мужских половых органах, по данным историков, является одной из первых хирургических операций, выполняемых как на людях, так и на животных, и первой, при которой стала применяться анестезия.

Техника мужской кастрации в Древнем Средиземноморье состояла в том, что половой член помещали в кольцо (см. фото), сжимали рычаги, зубцы захватывали кожу, соединявшую мошонку с телом. После этого мошонку отрезали. Этот инструмент позволял сделать кастрацию более безопасной.

Кастрация довольно широко применялась и др. странах Древнего Мира, а также в Средневековье. (В частности в мусульманских странах и Китае — в первую очередь как наказание за преступления и в виде расправы с политическими противниками и военнопленными, ввиду богатой иннервации органов мошонки, как чрезвычайно болезненная пытка, а также с целью создания слуг-евнухов для гаремов.)

В России XIX—XX веке существовали религиозные секты («скопцы»), участие в которых предполагало проведение операции «убеления» (оскопления). Эти секты были запрещены как в царской России, так и в СССР. Русское язычество также считает кастрацию противоестественной.

Кастрация в селекции растений

В селекции растений используется несколько способов кастрации.

• Кастрация цветков — предшествующий искусственному опылению, процесс удаления незрелых пыльников из цветков материнской формы гибридной комбинации растений.
• Кастрация с оставлением околоцветника — удаление тычинок.
• Кастрация с удалением околоцветника — удаление чашечки, венчика и тычинок^[5].

Кастрация в музыке

В связи с запретом для женщин петь в церковном хоре, кастрация применялась для подготовки певцов-кастратов с высокими голосами, аналогичным женским голосам (сопрано, альт).

Кастрация как наказание

Кастрация в средневековье в качестве наказания

Со времён Римской империи кастрация достаточно широко использовалась как наказание за широкий круг преступлений, в том числе направленных против императора. Также кастрация использовалась в качестве наказания в Древнем Китае, где в I веке до н. э. по приговору суда за оскорбление императора был кастрирован выдающийся китайский историк Сыма Цянь.

Химическая кастрация

Химическая кастрация — введение медпрепаратов, уменьшающих либидо и сексуальную активность. В отличие от хирургической кастрации, где яички или яичники удаляются^[6], химическая кастрация не удаляет никаких органов и не является процедурой стерилизации^[7].

Химическая кастрация считается на данный момент обратимой процедурой, если введение препарата прекращается, хотя некоторые побочные эффекты могут сохраняться в течение жизни, как, например, пониженная плотность костей при длительном применении препарата Depo-Provera^[en][8]. Химическая кастрация используется в некоторых странах как инструмент в судебной практике, несмотря на неисследованные побочные эффекты и возможное нарушение прав человека^[9][10].

Применение

Химическая кастрация заключается в применении антиандрогенных препаратов (например ципротерона ацетата), противозачаточного препарата Depo-Provera или антипсихотика бенперидола, которые вводят инъекционно каждые три месяца.

Эффекты

При использовании на мужчинах эти препараты уменьшают сексуальное влечение, внезапные сексуальные фантазии и саму возможность сексуального возбуждения. Угрожающие жизни побочные эффекты редки, но часть пациентов замечает ожирение и уменьшение плотности костей, что в долгосрочной перспективе может привести к кардиоваскулярным заболеваниям и остеопорозу. У них может также развиться гинекомастия (рост груди по женскому типу)^[11][12], уменьшение волосяного покрова тела^[13] и потеря мышечной массы^[14].

Аргументы против

Хотя химическая кастрация является альтернативой длительному сроку заключения и хирургической кастрации, Американский Совет по гражданским правам (American Civil Liberties Union) выступает против применения любых лекарств, включая применение антиандрогенных препаратов, для насильников. Его члены считают, что насильная химическая кастрация — это жестокое наказание, и поэтому она должна быть запрещена согласно Восьмой поправке к Конституции США. Они также заявляют, что она противоречит праву воспроизводить себе подобных и может привести к различным заболеваниям^[9]. Профессор права Джон Стиннфорд (John Stinneford) заявил, что химическая кастрация, контролируя мозг насильника, лишает его сексуального желания и приводит к физическим изменениям из-за женских гормонов, тем самым являясь жестоким и неадекватным наказанием^[15].

Также существует аргумент, апеллирующий к Четырнадцатой поправке к Конституции США и гласящий, что эта процедура не дает равной защиты: хотя законы, требующие применения химической кастрации, и не делают различия по полу насильника, основная масса случаев, в которых они применяются, касается мужчин^[10]. В случае добровольного применения дать полную картину происходящего тоже очень важно. В 1984 году в штате Мичиган США апелляционный суд решил, что требовать химической кастрации как условия для условного освобождения незаконно на том основании, что препарат medroxyprogesterone acetate ещё не получил разрешения на применение как безопасное и надёжное лекарство, а также из-за проблем в получении осознанного добровольного согласия в этих условиях^[10].

Научные исследования

В 1981 году в экспериментах P. Gagne 48 мужчин с длительной историей сексуальных отклонений в поведении получали medroxyprogesterone acetate до 12 месяцев. 40 из них заявили о снижении желания заниматься этими отклонениями, меньшем количестве сексуальных фантазий и большем контроле над сексуальными позывами. Это исследование зафиксировало положительное, после окончания приема препарата, воздействие на пациентов и отсутствие побочных эффектов и рекомендовало medroxyprogesterone acetate вместе с психической помощью как успешный метод лечения сексуальных насильников^[16].

История использования в разных странах

Первое использование химической кастрации датируется 1944 годом, когда diethylstilbestrol был использован для уменьшения уровня мужского тестостерона^[10]. Химическая кастрация часто рассматривается как более лёгкая альтернатива пожизненному заключению или смертной казни, позволяющая выпускать насильников, одновременно уменьшая или полностью лишая возможности повторного насилия^[17].

США

В 1966 году Джон Мани (John Money) прописал medroxyprogesterone acetate (MPA, основной ингредиент, используемый в препарате Depo Provera) как лечение пациенту с педофилическими наклонностями, став первым американцем, применившим химическую кастрацию^[10]. С этого времени препарат стал основным при применении химической кастрации в США^[10]. Несмотря на долгую историю и применение, препарат никогда не получал разрешение от государственного управления США по пищевым продуктам и лекарствам (FDA) для использования в химической кастрации^[10].

Калифорния была первым штатом США, утвердившим использование химической кастрации как наказания за развращение детей после узаконения изменений в разделе 645 Уголовного кодекса Калифорнии в 1996 году^[18][19]. Этот закон предусматривает, что любой приговоренный к тюремному сроку за развращение детей младше 13 лет может получать лечение препаратом Depo Provera, если срок условен. После второго приговора лечение обязательно^{[18][19][20][21]}.

Принятие этого закона привело к его принятию в других штатах, например во Флориде в 1997 году^[22]. Как и в Калифорнии, лечение обязательно после второго преступления.

Кроме Калифорнии и Флориды, ещё как минимум семь штатов, среди которых Джорджия, Айова, Луизиана, Монтана, Техас и Висконсин, проводят эксперименты по её применению^[10]. В Айове, как и в Калифорнии и Флориде, насильники приговариваются к химической кастрации во всех случаях тяжёлых сексуальных преступлений. 25 июня 2008 года, сразу после решения Верховного Суда США по делу Кеннеди против штата Луизиана о том, что казнь насильника ребёнка в случае, когда ребёнок выжил, неконституционна^[23], губернатор штата Луизиана Bobby Jindal подписал сенатский билль № 144, позволяющий судам его штата приговаривать насильников к химической кастрации^[9][24][25].

Великобритания

Препарат cyproterone acetate — наиболее часто применяемый для химической кастрации по всей Европе. Он схож с американским препаратом MPA^[10].

В Великобритании учёный математик Алан Тьюринг согласился на подавление своей гомосексуальности с помощью химической кастрации, чтобы избежать тюрьмы в 1952 году^[26]. В те времена гомосексуальность была незаконна и считалась психическим отклонением, которое может быть подавлено с помощью химической кастрации^[26]. В результате применения у Тьюринга развилась гинекомастия^[27], спустя несколько лет после окончания терапии он, по версии следствия, покончил с собой. По другой версии, Алан случайно отравился парами при проведении химического эксперимента.

Германия

В 1960-х гг. немецкие учёные использовали антиандрогены как лекарство против сексуальной парафилии^[10].

Российская Федерация

В мае 2011 года президент России Д. Медведев предложил применять химическую кастрацию к педофилам. Партия Справедливая Россия подготовила соответствующий законопроект, однако Правительство РФ в июле 2011 года дало на него отрицательное заключение из-за больших затрат на проведение химической кастрации^[28]. 7 февраля 2012 года закон был принят в третьем чтении и одобрен Советом Федерации 22 февраля^{[29][неавторитетный источник?]}.

29 февраля 2012 года президент России Д. Медведев подписал Федеральный закон «О внесении изменений в Уголовный кодекс Российской Федерации и отдельные законодательные акты Российской Федерации в целях усиления ответственности за преступления сексуального характера, совершённые в отношении несовершеннолетних»^{[30][нет в источнике]}.

Хирургическая кастрация

Используется в Чехии для наказания лиц, совершивших преступления на сексуальной почве, и практикуется с 1966 года^{[31][неавторитетный источник?]}.

Хирургическая кастрация в Чехии производится на добровольной основе. После отбывания срока осуждённое лицо не может выйти на свободу, пока врачи и суд не решат, что оно перестало быть опасным для общества. Для этого ему назначается лечение в психиатрической больнице, которое может длиться и год, и пять лет, и всю жизнь. Но пациент может избежать этого, добровольно согласившись на кастрацию. После процедуры рецидивов у него уже быть не может, и суд выпускает его на свободу.

Комитет Совета Европы против насилия неоднократно заявлял о недопустимости хирургической кастрации ввиду унизительности этой процедуры для человеческого достоинства. «Хирургическая кастрация имеет серьёзнейшие физические, а главное, психологические последствия, а потому не может быть использована», — говорится в сообщении комитета. Однако чешским властям эти аргументы не показались убедительными, поэтому в ближайшее время они не намерены отказываться от применения хирургической кастрации. Во время посещений двух чешских психиатрических лечебниц и двух тюрем, по итогам которого и было составлено сообщение, эксперты обнаружили, что преступники готовы примириться с кастрацией, ведь они убеждены, что это — единственный способ избежать пожизненного заключения^[32].^{[неавторитетный источник?]}

Кастрация по медицинским показаниям

Применяют в случае злокачественных опухолей яичек и предстательной железы, которая растёт под влиянием набирающего активность в яичках тестостерона, а также у женщин при опухолях или некоторых других заболеваниях яичников. Хирургическая кастрация, называемая двухсторонней орхиэктомией, у мужчин производится через разрез в паховой области^[33]. Также кастрацию выполняют при травматическом повреждении яичек и при изменении пола у транссексуалов.

Добровольная кастрация

Добровольная кастрация практиковалась некоторыми сектами, например, сектой скопцов. В России добровольная кастрация (не путать с вазэктомией), то есть при отсутствии медицинских показаний, запрещена, вероятно по той причине, что принято считать связанное с этим изменение продукции половых гормонов неестественным и может быть очень вредным. Исключением является оперативное вмешательство при разрешённой законом хирургической коррекции пола.

См. также

Примечания

1. ↑ Рахманов А. Г. Полный справочник животновода. — М.: АСТ. — ISBN 5-85684-501-3.)
2. ↑ Даль В. Толковый словарь живого великорусского языка. — СПб.—М.: Издание М. О. Вольфа, 1881. — Т. 2. — С. 114.
3. ↑ Квашнин Ю. Н. Оленеводство сибирских тундровых ненцев (неопр.) (недоступная ссылка). Дата обращения 15 ноября 2014. Архивировано 3 ноября 2014 года.
4. ↑ Майоров А. П. Термины животноводства в словаре русского языка XVIII в.: Восточная Сибирь. Забакалье (неопр.) (недоступная ссылка). Дата обращения 15 ноября 2014. Архивировано 29 ноября 2014 года.
5. ↑ Самигуллина Н. С. Практикум по селекции и сортоведению плодовых и ягодных культур: Учебное издание. — Мичуринск: Мичуринский государственный аграрный университет, 2006. — 197 с.
6. ↑ «Can Castration Be a Solution for Sex Offenders? Man Who Mutilated Himself in Jail Thinks So, but Debate on Its Effectiveness Continues in Va., Elsewhere» by Candace Rondeaux for the Washington Post, July 5, 2006
7. ↑ «Chemical castration — breaking the cycle of paraphiliac recidivism» Social Justice, Spring, 1999 by Christopher Meisenkothen.
8. ↑ Patient Labeling (неопр.). Pharmacia and Upjohn Company, Division of Pfifer. Архивировано 15 сентября 2013 года.
9. ↑ ^{1 2 3} Chemical Castration: A Return to the Dark Ages Архивная копия от 3 декабря 2008 на Wayback Machine Florida, August 1997, PDF Архивная копия от 11 сентября 2008 на Wayback Machine
10. ↑ ^{1 2 3 4 5 6 7 8 9 10} «Кастрация насильников: Права заключенных или Общественная безопасность» Charles L. Scott, MD, and Trent Holmberg, MD
11. ↑ Gynecomastia with Anti-androgens | Oncolink (неопр.) (недоступная ссылка). Дата обращения 27 июля 2013. Архивировано 4 марта 2016 года.
12. ↑ Anti-androgen Side Effects | LIVESTRONG.COM
13. ↑ Antiandrogen Drugs — definition of Antiandrogen Drugs in the Medical dictionary — by the Free Online Medical Dictionary, Thesaurus and Encyclopedia
14. ↑ Can drugs help sex offenders? by Clare Murphy for the BBC, 13 June 2007
15. ↑ Incapacitation through Maiming: Chemical Castration, the Eighth Amendment, and the Denial of Human Dignity by John Stinneford :: SSRN
16. ↑ American Psychiatric Association
17. ↑ Bill would impose castration for convicted rapists, Ocala Star-Banner (21 февраля 1997), С. 4B.
18. ↑ ^{1 2} XII. Sex offender: Children and minors (неопр.) (недоступная ссылка). California State Senate. Дата обращения 23 ноября 2006. Архивировано 20 сентября 2002 года. The web page notes the Chemical Castration clause as a repeal and an addition to Section 645.
19. ↑ ^{1 2} California child molesters could face chemical castration, CNN (29 августа 1996). Архивировано 20 октября 2006 года. Дата обращения 23 ноября 2006.
20. ↑ California code (недоступная ссылка)
21. ↑ «Chemical castration for paedophiles approved» in California 21 September 1996
22. ↑ Spalding, Larry Helm. Florida’s 1997 Chemical Chastration Law: A Return to the Dark Ages (англ.) // Florida State University Law Review (англ.)русск. : journal. — 1998. — Vol. 25, no. 2. — P. 117—139. Архивировано 13 июня 2010 года.
23. ↑ Jindal approves castration for sex offenders — Salon.com
24. ↑ Iowa Code 2007 Quick Retrieval
25. ↑ The 2007 Florida Statutes: 794.0235 Administration of medroxyprogesterone acetate (MPA) to persons convicted of sexual battery.
26. ↑ ^{1 2} The Turing enigma: Campaigners demand pardon for mathematics genius by Jonathan Brown for the Independent, August 18, 2009
27. ↑ An Apology To Alan Turing — The Daily Dish — The Atlantic
28. ↑ Химическая кастрация педофилов признана слишком затратной
29. ↑ ГД ужесточила наказание для педофилов, введя химическую кастрацию
30. ↑ Официальный документ на сайте Администрации Президента РФ
31. ↑ Педофилов исправит только кастрация
32. ↑ Совет Европы: «Кастрацию сексуальных насильников в Чехии — запретить!» (неопр.) (недоступная ссылка). Дата обращения 11 июля 2009. Архивировано 25 августа 2009 года.
33. ↑ Чухриенко Д., Люлько А. Удаление яичка — орхиэктомия Архивная копия от 20 ноября 2005 на Wayback Machine

Литература

оскопление — Викисловарь

Морфологические и синтаксические свойства

падеж	ед. ч.	мн. ч.
Им.	оскопле́ние	оскопле́ния
Р.	оскопле́ния	оскопле́ний
Д.	оскопле́нию	оскопле́ниям
В.	оскопле́ние	оскопле́ния
Тв.	оскопле́нием	оскопле́ниями
Пр.	оскопле́нии	оскопле́ниях

о·скоп-ле́-ни·е

Существительное, неодушевлённое, средний род, 2-е склонение (тип склонения 7a по классификации А. А. Зализняка).

Приставка: о-; корень: -скопл-; суффикс: -ениj; окончание: -е ^{[Тихонов, 1996]}.

Произношение

• МФА: [ɐskɐˈplʲenʲɪɪ̯ə]

Семантические свойства

Значение

1. действие по значению гл. оскоплять, оскопить; удаление половых желёз у животных и человека ◆ Отсутствует пример употребления (см. рекомендации).

Синонимы

1. кастрация

Антонимы

1. —

Гиперонимы

Гипонимы

Родственные слова

Этимология

Происходит от гл. оскопить, ??

Фразеологизмы и устойчивые сочетания

Перевод

Список переводов

Библиография

КАСТРАЦИЯ — это… Что такое КАСТРАЦИЯ?

КАСТРАЦИЯ — (лат. castratio, от castrare оскоплять). Оскопление, холощение. Словарь иностранных слов, вошедших в состав русского языка. Чудинов А.Н., 1910. КАСТРАЦИЯ лат. Castratin, от castrare, оскоплять. Оскопление. Объяснение 25000 иностранных слов,… …   Словарь иностранных слов русского языка

кастрация — холощение, хирургическое вмешательство в личную жизнь, оскопление Словарь русских синонимов. кастрация оскопление / животного: холощение Словарь синонимов русского языка. Практический справочник. М.: Русский язык. З. Е. Александрова. 2011 …   Словарь синонимов

кастрация — и, ж.castration f., нем. Kastration <лат. castratio оскопление. Оскопление людей или холощение животных. Павленков 1911. Кастрация. Углов 1859. Лекс. Толль 1864: кастрация; САН 1908: кастра/ция …   Исторический словарь галлицизмов русского языка

КАСТРАЦИЯ — (от лат. castratio оскопление) 1) у человека удаление половых желез (яичек, яичников) хирургическим путем или подавление их функции другими методами (гормоны, облучение) преимущественно при опухолях.2) Кастрация животных удаление половых желез у… …   Большой Энциклопедический словарь

Кастрация — Кастрация, оскопление, холощение хирургическая операция,производимая у мужчин и женщин при злокачественных опухолях яичек илияичников. У здоровых людей, помимо изуверных сект, в настоящее время К.практикуется ещё в Турции для приготовления… …   Энциклопедия Брокгауза и Ефрона

кастрация —     КАСТРАЦИЯ, оскопление, холощение     КАСТРАТ, евнух, устар. скопец     КАСТРИРОВАННЫЙ, выхолощенный, холощеный, спец. холостой     КАСТРИРОВАТЬ, выхолащивать/выхолостить, оскоплять/оскопить, скопить/ оскопить, холостить/охолостить, разг.… …   Словарь-тезаурус синонимов русской речи

КАСТРАЦИЯ — операция, убивающая половые функции оперированного. В истории уголовного права некоторых зарубежных стран рассматривалась как одна из мер превентивного воздействия (под влиянием идей антропологической и социологической школ уголовного права).. К …   Юридический словарь

КАСТРАЦИЯ — (от латинского castratio оскопление), удаление половых желез (яичек, яичников) хирургическим путем или подавление их функций другими методами (гормонами, облучением). В животноводстве проводится главным образом с хозяйственными целями:… …   Современная энциклопедия

КАСТРАЦИЯ — КАСТРАЦИЯ, удаление половых желез у животного или человека ЯИЧЕК у мужчины, ЯИЧНИКА у женщин. В человеческом обществе эта операция была формой наказания, ей подвергали рабов для того, чтобы лишить их половой силы (евнухи), либо для получения… …   Научно-технический энциклопедический словарь

КАСТРАЦИЯ — КАСТРАЦИЯ, кастрации, мн. нет, жен. (книжн.). Действие по гл. кастрировать. Толковый словарь Ушакова. Д.Н. Ушаков. 1935 1940 …   Толковый словарь Ушакова

90000 What Is Sputtering? Magnetron Sputtering? 90001 90002 90003 Written By Matt Hughes — President — Semicore Equipment, Inc. 90004 Published: 24 November 2014 90005 90006 90002 Sputtering is the thin film deposition manufacturing process at the core of today’s semiconductors, disk drives, CDs, and optical devices industries. On an atomic level, sputtering is the process whereby atoms are ejected from a target or source material that is to be deposited on a substrate — such as a silicon wafer, solar panel or optical device — as a result of the bombardment of the target by high energy particles.90006 90002 The verb «To Sputter» comes from the Latin word Sputare meaning to «To emit saliva with noise.» While the word sputtering sounds funny to those who associate it with stammering and speech impediments, in 1970 Peter J. Clarke changed the course of history when he developed the first «Sputter gun» that catapulted the semiconductor industry by enabling the accurate and reliable deposition of materials on an atomic level using a charged plasma stream of electrons and ions in a vacuum environment.90006 90002 The sputtering process begins when a substrate to be coated is placed in a vacuum chamber containing an inert gas — usually Argon — and a negative charge is applied to a target source material that will be deposited onto the substrate causing the plasma to glow. 90006 90002 Diagram of the Sputtering Process 90006 90002 Free electrons flow from the negatively charged target source material in the plasma environment, colliding with the outer electronic shell of the Argon gas atoms driving these electrons off due to their like charge.The inert gas atoms become positively charged ions attracted to the negatively charged target material at a very high velocity that «Sputters off» atomic size particles from the target source material due to the momentum of the collisions. These particles cross the vacuum deposition chamber of the sputter coater and are deposited as a thin film of material on the surface of the substrate to be coated. 90006 90002 Sputtering only takes place when the kinetic energy of the bombarding particles is extremely high, much higher than normal thermal energies in the «Fourth state of nature» plasma environment.This can allow a much more pure and precise thin film deposition on the atomic level than can be achieved by melting a source material with conventional thermal energies. 90006 90002 The number of atoms ejected or «Sputtered off» from the target or source material is called the sputter yield. The sputter yield varies and can be controlled by the energy and incident of angle of the bombarding ions, the relative masses of the ions and target atoms, and the surface binding energy of the target atoms.Several different methods of physical vapor deposition are widely used in sputter coaters, including ion beam and ion-assisted sputtering, reactive sputtering in an Oxygen gas environment, gas flow and magnetron sputtering. 90006 90002 Diagram of the DC Magnetron 90004 Sputtering Process 90006 90002 Because ions are charged particles, magnetic fields can be used to control their velocity and behavior. John S. Chapin is credited with inventing the first planar magnetron sputtering source with a patent filed in тисячі дев’ятсот сімдесят чотири.While conventional diode sputtering can deposit extremely thin films down to the atomic scale, it tends to be slow and most effective with small substrates. The bombardment of the substrate can also create overheating or damage to the object to be coated. 90006 90002 Magnetron sputtering deposition uses magnets behind the negative cathode to trap electrons over the negatively charged target material so they are not free to bombard the substrate, allowing for faster deposition rates. 90006 90002 The most common magnetron sputter cathode / target shapes are circular and rectangular.Rectangular magnetrons are most commonly used in larger scale «In-line» systems where substrates scan linearly past the targets on some type of conveyor belt or carrier. Circular sputtering magnetrons are more commonly found in smaller scale «Confocal» batch systems or single wafer stations. Read More … 90006 90002 90006 90002 Reactive Sputtering is the process of adding a gas to the vacuum chamber that undergoes a chemical reaction before coming into contact with the materials to be coated.Gases like Nitrogen or Oxygen which are normally stable and inert under normal circumstances become ionized and reactive in the plasma environment as a result of the high energy collisions. 90006 90002 When this happens, the gas can react chemically with the target material cloud and create a molecular compound which then becomes the thin film coating. For example, a silicon target reactively sputtered with oxygen gas can produce a silicon oxide film, or with nitrogen can produce a silicon nitride film which are at the heart of the semiconductor industry.Read more … 90006 90002 90006 90002 Co-Sputtering is where two or more target materials are sputtered at once in the vacuum chamber and is often used with Reactive Magnetron Sputtering to produce thin films that are compounds such as alloys or composites. 90006 90002 It is widely used in the optical and architectural glass industries. By utilizing Reactive Co-Sputtering of two target materials such as Silicon and Titanium with dual Magnetron Sputtering, the refractive index or shading effect of the glass can be carefully and precisely controlled on applications ranging from large scale surfaces such as skyscraper architectural glass to sunglasses.It is also widely used producing solar panels. Read more … 90006 90002 90006 90044 Types of Sputtering Power Sources 90045 90002 There are several different types of power sources used to bombard the target material to sputter the atoms — including DC and RF Sputtering, Pulsed DC, MF, AC and the newly evolving HIPIMS sputtering techniques. 90006 90002 90049 DC or Direct Current Sputtering 90050 is the simplest and most frequently used with electrically conductive target materials like metals because it is easy to control and relatively low cost in power consumption.When possible, DC Sputtering can be a relatively inexpensive, cost effective solution for coating a wide range of decorative metal coatings. Read more … 90006 90002 However, DC Sputtering has limitations when it comes to dielectric target materials — coatings which are non-conducting insulating materials that can take on a polarized charge. Examples of common dielectric coating materials include Aluminum Oxide, Silicon Oxide and Tantalum Oxide. 90006 90002 During DC Sputtering, the gas in the vacuum chamber becomes ionized.As a result, positive ions are produced which accumulate on the surface of the target face giving it a positive charge. This dielectric buildup of a positive charge over time can terminate the discharge of sputtering atoms. 90006 90002 Several methods have been developed to alternate or pulse the sputtering power source to «clean» or neutralize the target surface and prevent it from developing a positive charge. 90006 90002 90049 RF or Radio Frequency Sputtering 90050 alternates the electrical potential of the current at radio frequencies to avoid a charge build up.By alternating the current in this manner, each phase of the cycle has the effect of reversing the buildup when the current is only flowing continuously in one direction. As with DC Magnetron Sputtering, RF Magnetron sputtering coaters increases the growth of the thin film by increasing the percentage of target atoms which become ionized. Read more … 90006 90002 90049 Pulsed DC Sputtering 90050 is where the target is bombarded with powerful voltage spikes to clean the target face and prevent the buildup of a dielectric charge.These voltage spikes which clean the target surface are usually set at frequencies ranging from 40 to 200 KHz. Read more … 90006 90002 90049 HIPIMS or High Power Impulse Magnetron Sputtering 90050 is a newly evolving sputtering technique which also uses a high current voltage spike to greatly increase the ionization of the sputtering target. Compared to traditional sputtering processes, ionized atoms in HIPIMS systems have significantly higher energies capable of producing very dense thin film coatings.Read more … 90006 90002 90049 MF or Mid Frequency AC Sputtering 90050 is usually used for depositing non-conductive thin film coatings. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal of the current. Read more … 90006 90002 90006 90002 90049 Matt Hughes 90050 is President of Semicore Equipment Inc, one of the world’s leading suppliers of high performance PVD coating equipment including RF, DC and Pulsed DC, HIPIMS and AC Sputtering Systems.90006 90044 90045 90044 What is Sputtering? Video Script 90045 90002 90004 Exactly how does the sputtering process work? 90006 90002 First your coating materials are placed on a magnetron in a solid form called a target. For highly pure coatings you need a clean environment with only materials of your choosing. 90006 90002 This is why the chamber is evacuated, to remove almost every molecule from the chamber. Then the chamber is backfilled with a process gas. 90006 90002 Which gas is selected is based on the type of material to be deposited; Common process gasses include argon, oxygen, and nitrogen.90006 90002 Now the conditions are ready to begin the process. A negative electrical potential is applied to the target material to be sputtered which is the magnetron cathode — and the positive anode or ground is the chamber body. 90006 90002 This electrical potential will cause free electrons to accelerate away from the magnetron. When these electrons collide with a process gas atom they strip the gas atom of an electron creating a positively charged process gas ion.The positively charged ion is accelerated toward the magnetron.90006 90002 This ion carries enough energy with it to «knock off» or «sputter» some of the magnetrons target material. Target material will then collect on surfaces in the path that the magnetron is directed. This is how «sputtered» material collects on your substrate. 90006 90002 The light from the plasma is created when the ions recombine with free electrons into a lower energy state. Positively charged ions recombine with free electrons to create a neutral atom again. 90006 90002 The plasma glow is created when the ions recombine with free electrons into a lower energy state.When a free electron recombines with an ion it has a voltage; the ion needs less voltage, so this ‘excess voltage’ is let off as light. The light is the plasma glow that is seen during processing. 90006 90002 This thin film deposition process continues at a constant rate until the desired thickness is achieved and the power is removed from the cathode. 90006 90002 This amazing atomic reaction known as «sputtering» is what makes Semicore a leader in custom vacuum equipment. 90006 90002 90006 90002 90006 90002 90049 Semicore Equipment, Inc 90050.is a leading worldwide supplier of sputtering equipment for the electronics, optical, solar energy, medical, automotive, military and related high technology industries. Please allow our support staff to answer any questions you have regarding «90049 What is sputtering? 90050 «and how to implement the best equipment and techniques for your specific needs — whether it be DC, RF, Pulsed DC or HIPIMS equipment — by contacting us at [email protected] or calling 925-373-8201. 90006 90002 90006 90044 Related Articles 90045 90002 90006 90002 DC electrical current typically in the -2 to -5 kV range is applied to the target coating material that is the cathode or point at which electrons enter the system known as the negative bias.A positive charge is also applied to the substrate to be coated which become the anode. The electrically neutral argon gas atoms are first ionized colliding with the target which eject atoms off into the plasma — a hot gas-like state consisting of roughly half gas ions and half electrons that emits the visible plasma glow. …. Read More 90006 90002 90006 90002 90006 90002 RF Sputtering can be used for the coating of dielectric or insulative materials that can take on a charge that results in arcing in the vacuum chamber with convention DC Sputtering.However, RF Sputtering deposition rates are slower than DC Sputtering rates and have higher power costs and so is usually used on smaller substrates to be coated. …. Read More 90006 90002 90006 90002 90006 90002 Compared to conventional DC Sputtering, arcing can be greatly decreased or even eliminated by pulsing the DC voltage in the 10-350 kHz range with duty cycles in the 50-90% range. A Pulsed DC electrical current typically in the few hundreds of volts range is applied to the target coating material.the voltage is either turned off or reversed with a low voltage short duration cycle to «cleanse» the target of any charge buildup. …. Read More 90006 90002 90006 90002 90006 90002 By pulsing the target coating material with short bursts of very high voltage energy — with a length of ~ 100 μs on the order of kW⋅cm-2 but with a relatively short duration or «Duty time» of less than 10% — allows for a large fraction of the sputtered target material to be ionized in the plasma cloud without overheating the target and other components of the system.The target has a chance to cool during the predominant «Off duty» time which results in a low average cathode power of 1-10 kW which helps maintain process stability. …. Read More 90006 .90000 What is RF Sputtering? 90001 90002 Written By Matt Hughes — President — Semicore Equipment, Inc. 90003 90002 90003 90002 RF or Radio Frequency Sputtering is the technique involved in alternating the electrical potential of the current in the vacuum environment at radio frequencies to avoid a charge building up on certain types of sputtering target materials, which over time can result in arcing into the plasma that spews droplets creating quality control issues on the thin films — and can even lead to the complete cessation of the sputtering of atoms terminating the process.90003 90002 Traditional DC Sputtering is a cost effective way of applying metal target coatings that are electrical conductors like gold. However, DC Sputtering is limited when it comes to dielectric target materials — coatings which are non-conducting insulating materials that can take on a polarized charge. Examples of common dielectric coating materials used in the semiconductor industry include Aluminum Oxide, Silicon Oxide and Tantalum Oxide. 90003 90010 Diagram of the RF Sputtering Process 90011 90002 As with DC Sputtering, RF Sputtering runs an energetic wave through an inert gas in a vacuum chamber which becomes ionized.The target material or cathode which is to become the thin film coating is bombarded by these high energy ions sputtering off atoms as a fine spray covering the substrate to be coated. RF Magnetron sputtering uses magnets behind the negative cathode to trap electrons over the negatively charged target material so they are not free to bombard the substrate, allowing for faster deposition rates. 90003 90002 Over time, positive ions are produced which accumulate on the surface of the target face giving it a positive charge.At a certain point this charge can build up and lead to a complete secession of sputtering atoms being discharged for coating. 90003 90002 By alternating the electrical potential with RF Sputtering, the surface of the target material can be «cleaned» of a charge buildup with each cycle. On the positive cycle electrons are attracted to the target material or cathode giving it a negative bias. On the negative portion of the cycle — which is occurring at the radio frequency of 13.56 MHz used internationally for RF power supply equipment — ion bombardment of the target to be sputtered continues.90003 90002 RF Sputtering offers several advantages depending upon your specific application. RF plasmas tend to defuse throughout the entire chamber rather than concentrating around the cathode or target material as with DC Sputtering. 90003 90002 RF Sputtering can sustain a plasma throughout the chamber at a lower pressure (1-15 mTorr). The result is fewer ionized gas collisions equaling more efficient line-of-site deposition of the coating material. 90003 90002 Because with RF Sputtering the target material is being «cleaned» with each cycle from building up a charge it helps reduce arcing.Arcing is where there is an intensely focused and localized discharge emanates from the target material or cathode into the plasma that creating droplets and problems with non-uniform film deposition. RF Sputtering greatly reduces the buildup of a charge in a specific location on the surface of the target material that leads to the sparks that creates the arc which causes numerous quality control issues. 90003 90002 Racetrack Erosion of Target Coating 90003 90002 RF Sputtering also reduces the creation of «Race track erosion» on the surface of the target material.With Magnetron Sputtering, a circular pattern becomes etched into the surface of the target material as a result of the circular magnetic field of the magnetron focusing the charged plasma particles close to the surface of the sputter target. The diameter of the circular pattern is the result of the magnetic field. 90003 90002 With RF Sputtering the width and depth of the race track is much less due to the AC nature of the RF discharge with electrons less confined by the magnetic field. The plasma spreads out more producing a larger, wider and shallower racetrack.This makes for better, more uniform and efficient utilization of target coating materials without the deep etching of «Race track erosion». 90003 90002 Another advantage of RF Sputtering is that there is no disappearing anode effect when the substrate to be coated becomes insulated and acquires a charge as with DC Sputtering. All surfaces develop a charge in a plasma as a result of electrons moving much faster than ions due to their smaller size and kinetic energy. 90003 90002 However, as a result of the AC modulation of the power at radio frequencies, the material to be coated with RF Sputtering does not acquire as great a charge buildup due to it being discharged each half cycle and becoming insulated — which over time can eventually lead to a cessation of the thin film deposition.With RF Magnetron Sputtering the magnetic field forms a boundary «tunnel» which traps electrons near the surface of the target improving the efficiency of gas ion formation and constraining the discharge of the plasma. In this way, RF Magnetron Sputtering allows for higher current at lower gas pressure that achieves an even higher deposition rate. 90003 90002 While RF Sputtering offers many very attractive benefits depending upon the type of material to be coated, there are several important costs involved that must be considered.Because RF Sputtering uses radio waves instead of DC current, deposition rates are considerably slower with RF Sputtering and require significantly higher voltages. A DC Sputtering system typically requires between -s 2 to -5kV, whereas RF Sputtering needs 1012 volts to sputter dielectric insulators. 90003 90002 Radio waves require much higher voltage to achieve the same deposition results as with direct current, and so overheating becomes an issue. Applying RF power is complicated requiring high voltage power supplies that are expensive.Advanced circuitry is required that can pose additional overheating problems. 90003 90002 Another issue is that the RF currents travel on the «skin» or surface of conductors and not through them. This means that special cabling / connectors are critical. 90003 90002 Another major consideration that needs to be factored with RF Sputtering rates is the decrease in deposition rates due to the lack of secondary electrons being trapped above the target as with conventional Magnetron Sputtering for gas ionization.With all types of sputtering, the plasma is sustained by the breakdown and ionization of an inert gas such as argon — which is most widely used due to its larger mass compared to the other inert gasses, helium and neon. 90003 90002 By alternating the current at a high radio frequency a plasma can be sustained with much lower pressure due to the kinetic energy resulting from accelerating and reversing the electrons for a sufficient distance in the plasma. The difference in the mass between the ionized gas particles and the electrons enables a plasma to be sustained without depending upon the trapping of secondary ions above the target material as with conventional Magnetron Sputtering.90003 90002 However, this also results in a slower deposition rate compared to DC Sputtering due to the lack of secondary electrons above the target. Because RF Sputtering deposition rates are slower than DC Sputtering rates and have much higher power costs, on a practical level this translates into RF Sputtering usually being used on smaller substrates to be coated. 90003 90002 While RF Sputtering can be used for most types of thin film deposition coatings, it has become the thin film deposition technique of choice for many types of dielectric coatings — insulating coatings which are non-conducting that can take on a polarized charge.RF Sputtering is at the heart of the semiconductor industry producing highly insulating oxide films between the thin film layers of microchip circuitry including Aluminum Oxide, Silicon Oxide and Tantalum Oxide. 90003 90002 90003 90002 90003 90002 Matt Hughes is President of Semicore Equipment Inc, a leading worldwide supplier of sputtering equipment for the electronics, solar energy, optical, medical, military, automotive, and related high tech industries. Please let our helpful support staff answer any questions you have regarding «90053 What is RF Sputtering? 90054 «and how to implement the best techniques and equipment for your specific Thin Film Deposition RF Sputtering Equipment needs by contacting us at sales @ semicore.com or by calling 925-373-8201. 90003 90002 90003 90058 Related Articles 90059 90002 Compared to conventional DC Sputtering, arcing can be greatly decreased or even eliminated by pulsing the DC voltage in the 10-350 kHz range with duty cycles in the 50-90% range. A Pulsed DC electrical current typically in the few hundreds of volts range is applied to the target coating material. the voltage is either turned off or reversed with a low voltage short duration cycle to «cleanse» the target of any charge buildup….. Read More 90003 90002 90003 90002 By pulsing the target coating material with short bursts of very high voltage energy — with a length of ~ 100 μs on the order of kW⋅cm-2 but with a relatively short duration or «Duty time» of less than 10% — allows for a large fraction of the sputtered target material to be ionized in the plasma cloud without overheating the target and other components of the system. The target has a chance to cool during the predominant «Off duty» time which results in a low average cathode power of 1-10 kW which helps maintain process stability….. Read More 90003 90002 90003 90002 Photo: CC by Inmodus 90003 .90000 What is DC Sputtering? 90001 90002 Written By Matt Hughes — President — Semicore Equipment, Inc. 90003 90002 90003 90002 DC or Direct Current Sputtering is a Thin Film Physical Vapor Deposition (PVD) Coating technique where a target material to be used as the coating is bombarded with ionized gas molecules causing atoms to be «Sputtered» off into the plasma. These vaporized atoms are then deposited when they condense as a thin film on the substrate to be coated. 90003 90002 Diagram of the DC Magnetron 90009 Sputtering Process 90003 90002 DC Sputtering is the most basic and inexpensive type of sputtering for PVD metal deposition and electrically conductive target coating materials.Two major advantages of DC as a power source for this process is that it is easy to control and is a low cost option if you are doing metal deposition for coating. 90003 90002 DC Sputtering is used extensively in the semiconductor industry creating microchip circuitry on the molecular level. It is used for gold sputter coatings of jewelry, watches and other decorative finishes, for non-reflective coatings on glass and optical components, as well as for metalized packaging plastics. 90003 90002 The basic configuration of a DC Sputtering coating system is the target material to be used as a coating is placed in a vacuum chamber parallel to the substrate to be coated.90003 90002 The vacuum chamber is evacuated to a base pressure removing h3O, Air, h3, Ar and then backfilled with a high purity inert process gas — usually Argon due to its relative mass and ability to convey kinetic energy upon impact during high energy molecular collisions in the plasma that creates the gas ions that are the primary driving force of sputter thin film deposition. Typical sputter pressures range from 0.5mTorr to 100mTorr 90003 90002 A DC electrical current typically in the -2 to -5 kV range is then applied to the target coating material that is the cathode or point at which electrons enter the system known as the negative bias.A positive charge is also applied to the substrate to be coated which become the anode. 90003 90002 The electrically neutral argon gas atoms are first ionized as a result of the forceful collision of these gas atoms onto the surface of the negatively charged target which eject atoms off into the plasma — a hot gas-like state consisting of roughly half gas ions and half electrons that emits the visible plasma glow. 90003 90002 The ionized argon gas atoms are then driven to the substrate which is the anode or positive charged bias attracting ionized gas ions, electrons and the vaporized target coating atoms which condense and form a thin film coating on the substrate to be coated.DC Magnetron sputtering uses magnets behind the negative cathode to trap electrons over the negatively charged target material so they are not free to bombard the substrate, allowing for faster deposition rates. 90009 The magnetic field forms a boundary «tunnel» which traps electrons near the surface of the target that improves the efficiency of the gas ion formation. DC Magnetron Sputtering allows for higher current at lower gas pressure that achieves an even higher thin film deposition rate. 90003 90002 Diagram of the 90009 DC Sputtering Process 90003 90009 90002 While DC Sputtering is the economical solution of choice for many types of metal coatings, its primary limitation is that non-conducting dielectric insulating materials take on a charge over time which can result in quality issues like arcing, or the poisoning of the target material with a charge that can result in the complete cessation of sputtering.90003 90002 To overcome these limitations of DC Sputtering, several more complicated technologies have been developed such as RF or Radio Frequency Sputtering, and HIPIMS or High Power Impulse Magnetron Sputtering. RF Sputtering alternates the electrical charge at Radio Frequency so as to prevent a charge buildup on the target or coating material. HIPIMS utilizes a very high voltage, short duration burst of energy focused on the target coating material to generate a high density plasma that results in a high degree of ionization of the coating material in the plasma.90003 90002 Despite the relative simplicity of DC Sputtering it usually has low deposition rates compared to more complicated HIPIMS that is the result of lower plasma densities and higher gas densities. 90003 90002 However, the relative simplicity of the DC Power source compared to RF or HIPMIS Power sources that require much more complicated configuration, cabling and higher energy costs continues to make DC Sputtering the low cost solution for many types of vacuum metal deposition like gold sputtering and other electrically conductive coatings.90003 90002 90003 90002 Matt Hughes is President of Semicore Equipment Inc, a leading worldwide supplier of sputtering equipment for the electronics, solar energy, optical, medical, military, automotive, and related high tech industries. Please let our helpful support staff answer any questions you have regarding «What is DC Sputtering?» and how to implement the best techniques and equipment for your specific Metal Deposition DC Sputtering Equipment needs by contacting us at sales @ semicore.com or by calling 925-373-8201. 90003 90002 90003 90044 Related Articles 90045 90002 RF Sputtering can be used for the coating of dielectric or insulative materials that can take on a charge that results in arcing in the vacuum chamber with convention DC Sputtering. However, RF Sputtering deposition rates are slower than DC Sputtering rates and have higher power costs and so is usually used on smaller substrates to be coated. …. Read More 90003 90002 90003 90002 90003 90002 Compared to conventional DC Sputtering, arcing can be greatly decreased or even eliminated by pulsing the DC voltage in the 10-350 kHz range with duty cycles in the 50-90% range.A Pulsed DC electrical current typically in the few hundreds of volts range is applied to the target coating material. the voltage is either turned off or more frequently reversed with a low voltage short duration cycle to «cleanse» the target of any charge buildup. …. Read More 90003 90002 90003 90002 Photo: CC BY-SA Sherrie Thai 90009 90003 .90000 What is a Sputtering System? 90001 90002 Sputtering is a process of thin film deposition in which a solid target material is ejected onto the surface of a substrate to form a thin coating. A sputtering system is a machine in which a sputtering process occurs. It contains the entire process and allows a user to adjust the temperature, power, pressure, target, and substrate materials. 90003 90004 Man with a drill 90002 Sputtering is known as physical vapor deposition, because the thin film is formed by physical means, rather than through chemical reactions.In a sputtering system, a vacuum chamber contains the target material, a power source, and a gas plasma. The gas, which is usually a noble gas such as argon, is brought into the chamber at a very low pressure to start the process. 90003 90002 The power source generates electrons that bombard the gas plasma, and these electrons kick away other electrons present in the gas.This causes the gas to ionize and form positive ions known as cations. These cations in turn bombard the target material, knocking away small pieces of it that travel through the chamber and deposit themselves on the substrate. The process is easily perpetuated in the sputtering system chamber, because extra electrons are freed during the ionization of the gas plasma. 90003 90002 Sputtering systems vary in terms of structure, power source, size, and price.The orientation of the target material and substrate are specific to each machine. Some systems will face the target material parallel to the surface of the substrate, while others will tilt either surface to form a different deposition pattern. Confocal sputtering, for example, orients multiple units of target material in a circle pointing toward a focal point. The substrate in this type of system can then be rotated for more even deposition. 90003 90002 Want to automatically save time and money month? Take a 2-minute quiz to find out how you can start saving up to $ 257 / month.90003 90002 The power source also varies, because certain systems use direct current (DC) power, while others use radio frequency (RF) power. One type of sputtering system, known as magnetron sputtering, also includes magnets to stabilize the free electrons and even out the thin film deposition. These methods give the sputtering system different qualities regarding temperature and speed of deposition. 90003 90002 Sputtering systems range in size from desktop systems to large machines that are bigger than a refrigerator.The inner chamber also varies in size, but is generally much smaller than the machine itself; most chambers have diameters smaller than 1 yard (about 1 meter). The cost of a sputtering system ranges from less than $ 20,000 US Dollars (USD) used, to upward of $ 650,000 USD for a new or custom designed system. 90003 .